国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于光学旋涡的量测系统和方法”的专利，公开号CN121866508A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，描述了基于光学旋涡的量测系统和方法。辐射源被配置为用辐射来辐射图案化衬底的一个或多个层中的量测目标。量测目标被配置为衍射来自辐射源的辐射并向来自辐射源的辐射赋予轨道角动量。辐射传感器被配置为基于从量测目标接收的经衍射的辐射的轨道角动量来生成量测信号。量测信号包括一个或多个层的对准位置信息和/或套刻信息。有利地，与仅使用相位或强度信息的现有量测系统相比，经衍射的辐射的轨道角动量可以携带对于生成更精确测量有用的附加信息。

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